退火温度对化学水浴沉积CdS薄膜性能的影响

• 作者: 管玉鑫 薛钰芝
• 来源期刊: 大连交通大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: CdS薄膜 化学水浴沉积(CBD) 退火温度
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 57-61
• 分类号: TB383.2
• 字数: 3247字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9590.2012.02.014

摘要

采用化学水浴沉积法(CBD)制备了CdS薄膜,用扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、分光光度计进行检测.研究了退火温度对CdS薄膜表面形貌、成分、晶体结构和光学性能的影响.研究表明,CdS薄膜为微晶或是非晶态,S/Cd原子比在0.8左右,可见光透过率较高；随着退火温度的升高,薄膜结晶明显,但是透光率下降,禁带宽度范围在2.42～2.59eV之间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛钰芝	大连交通大学材料科学与工程学院	31	128	6.0	9.0
2	管玉鑫	大连交通大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0