Numerical Simulation of VHF Effects on Densities of Important Species for Silicon Film Deposition at Atmospheric Pressure

文献导航

搜索文章

搜索思路

钛学术文献服务平台 \
学术期刊 \
基础科学期刊 \
物理学期刊 \
等离子体科学和技术(英文版)期刊 \
Numerical Simulation of VHF Effects on Densities of Important Species for Silicon Film Deposition at Atmospheric Pressure

作者：

SANG Chaofeng SUN Jizhong WANG Dezhen ZHUANG Juan

基本信息来源于合作网站，原文需代理用户跳转至来源网站获取

数值模拟

大气压力

薄膜沉积

VHF

密度

硅烷

SiH3

物种

摘要：

内容分析

关键词云

关键词热度

相关文献

推荐文献

根据相关规定，获取原文需跳转至原文服务方进行注册认证身份信息

完成下面三个步骤操作后即可获取文献，阅读后请点击下方页面【继续获取】按钮

钛学术文献服务平台

学术出版新技术应用与公共服务实验室出品

原文合作方

获取文献流程

1.访问原文合作方请等待几秒系统会自动跳转至登录页，首次访问请先注册账号，填写基本信息后，点击【注册】

2.注册后进行实名认证，实名认证成功后点击【返回】

3.检查邮箱地址是否正确，若错误或未填写请填写正确邮箱地址，点击【确认支付】完成获取，文献将在1小时内发送至您的邮箱

*若已注册过原文合作方账号的用户，可跳过上述操作，直接登录后获取原文即可

点击【获取原文】按钮，跳转至合作网站。

首次获取需要在合作网站进行注册。

注册并实名认证，认证后点击【返回】按钮。

确认邮箱信息，点击【确认支付】，订单将在一小时内发送至您的邮箱。

* 若已经注册过合作网站账号，请忽略第二、三步，直接登录即可。

按字母查找期刊：

联系合作广告推广: shenyukuan@paperpass.com

篇名	Numerical Simulation of VHF Effects on Densities of Important Species for Silicon Film Deposition at Atmospheric Pressure
来源期刊	等离子体科学和技术：英文版	学科	工学
关键词	数值模拟大气压力薄膜沉积 VHF 密度硅烷 SiH3 物种
年，卷（期）	2012,（12）	所属期刊栏目
研究方向		页码范围	1106-1109
页数		分类号	O484.1\|TD712.52
字数		语种	英文
DOI