二氧化碳沉淀法制备高纯二氧化硅的工艺研究

• 作者: 和晓才 徐庆鑫 李怀仁 杨大锦 瞿中标 谢刚
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 高纯SiO2 CO2 盐酸
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 604-609
• 分类号: TF111.34
• 字数: 3168字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2012.04.017

摘要

研究了用二氧化碳沉淀法制备高纯二氧化硅的工艺,试验内容主要分为两个工艺段,首先用工业二氧化碳与空气的混合气体从初步净化后的偏硅酸钠溶液中沉淀出偏硅酸,控制好温度、气体流量、二氧化硅浓度及pH等条件,在沉淀过程中溶液中的部分杂质不与偏硅酸一同沉淀,实现与部分Al,B,P等杂质的分离,从而获得铝、铁含量较低的偏硅酸.获得的倔硅酸用去离子水充分洗涤后,烘干脱水,分析其中的杂质含量；其次是用盐酸溶出获得的偏硅酸中的杂质,控制液固比、温度、反应时间及酸浓度,在常压下反应一定的时间、然后抽滤、分离得偏硅酸,用去离子水洗至中性后,再用一定含量的氯化铵溶液洗涤,最后用去离子水充分洗涤,获得的偏硅酸在850℃下煅烧2h,就获得了纯度≥99.99％的二氧化硅.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨大锦		52	234	8.0	12.0
2	谢刚		75	262	8.0	12.0
3	和晓才		59	208	8.0	10.0
4	李怀仁		27	140	7.0	10.0
5	徐庆鑫		26	94	6.0	8.0
6	瞿中标		1	14	1.0	1.0