声表面波器件制作中的一种剥离技术

• 作者: 冷俊林 刘晓莉 曾武 朱明 杨正兵 陈峻
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: 声表面波 表面处理 剥离工艺
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 生表面波及体声波技术
• 页码范围: 163-165,168
• 分类号: TN65
• 字数: 2761字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2474.2012.02.001

摘要

介绍了一种适用于LiTaO3、LiNbO3基片的金属剥离工艺技术.该剥离技术利用碱性溶剂浸泡处理光刻胶,光刻胶顶层形成一层有利于剥离的突出遮蔽层.利用该技术可制作线宽小于0.5μm的SAW芯片.该技术无需额外设备,工艺稳定且成本低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈峻		6	20	3.0	4.0
2	杨正兵		5	14	3.0	3.0
3	冷俊林		6	17	3.0	3.0
4	刘晓莉		10	26	3.0	4.0
5	曾武		1	5	1.0	1.0
6	朱明		2	24	2.0	2.0