溅射功率和工作气压对磁控溅射铬薄膜光电学性质的影响

• 作者: 关贵清 吴杨微 林建平 赖发春 黄光彩
• 来源期刊: 福建师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 铬薄膜 溅射功率 工作气压 光电学性质
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 页码范围: 52-57
• 分类号: O484.4
• 字数: 3437字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5277.2012.05.011

摘要

采用直流磁控溅射方法在石英基片上沉积铬薄膜.研究溅射功率、工作气压对铬薄膜结构、电学和光学性质的影响.利用X射线衍射仪、分光光度计和Van der Pauw方法分别检测薄膜的结构、光学和电学特性,利用德鲁特模型和薄膜的透射、反射光谱计算薄膜的厚度和光学常数.结果表明:制备的铬薄膜为体心立方的多晶态；在工作气压0.6Pa一定时,随着溅射功率从40 W增加到120W,沉积速率呈非线性增加,薄膜更加致密,电阻率连续降低,在550 nm波长处,薄膜的折射率从3.52增大到功率80 W时的最大值(3.88),尔后逐渐减小至3.69；消光系数从1.50逐渐增大到2.20；在溅射功率80 W一定时,随着工作气压从0.4 Pa增加到1.2Pa,沉积速率呈近线性降低,薄膜的电阻率逐渐变大,在550 nm波长处,折射率从3.88减小到3.62,消光系数从2.55减小到1.48.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林建平	宁德师范学院物理与电气工程系	27	49	4.0	5.0
2	关贵清	宁德师范学院物理与电气工程系	24	22	3.0	3.0
3	黄光彩	宁德师范学院物理与电气工程系	5	5	1.0	2.0
4	吴杨微	福建师范大学物理与能源学院	3	7	2.0	2.0
5	赖发春	福建师范大学物理与能源学院	37	216	8.0	13.0