占空比对微弧氧化纯钛膜层结构的影响

• 作者: 丁婧文 刘伟珍 刘湘宁 周磊 李少冰 蒋颖 郭泽鸿 高岩
• 来源期刊: 中国组织工程研究
• 学科: 医学
• 关键词: 微弧氧化 占空比 钛 膜层结构 晶相 元素
• 年，卷（期）: 2012,（12）
• 所属期刊栏目: 技术与方法
• 页码范围: 2203-2206
• 分类号: R318
• 字数: 3454字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-8225.2012.12.026

摘要

背景:利用微弧氧化生成的纯钛表面陶瓷层特性与电化学参数有着较为密切的关系,目前尚且没有较为统一的标准参数.目的:观察在不同占空比处理条件下,利用微弧氧化技术在纯钛表面形成含钙磷氧化层的结构特性.方法:根据占空比的不同(5%,25%,45%,65%),采用微弧氧化技术处理纯钛试件,使用扫描电镜观察表面形貌,X射线能谱仪分析膜层表面元素,X射线衍射仪分析膜层物相.结果与结论:微弧氧化处理后,纯钛表面形成了均匀多孔的陶瓷层,随着占空比增加,表面膜层变得粗糙不平,微孔直径增加,孔洞分布的不均匀性增加.膜层主要元素为Ti、P、O、Ca 4种,且Ca/P随着占空比的增加而增加,当占空比增大到45%时,Ca/P增加变得不明显.膜层表面有金红石型和锐钛矿型TiO2存在.提示占空比增加,微弧氧化膜层微孔直径增加,钙磷元素相对含量增加,锐钛矿型TiO2向金红石型发生转变.