非晶态碲镉汞薄膜晶化过程的椭圆偏振光谱研究

• 作者: 姬荣斌 孔令德 孔金丞 张鹏举 李雄军 杨丽丽 杨佩原 王光华 赵俊
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 椭圆偏振光谱 非晶态碲镉汞 晶化
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 187-190
• 分类号: TN213
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2012.04.001

摘要

采用椭圆偏振光谱技术研究了非晶态碲镉汞薄膜在不同退火条件下的结构性能.结果表明非晶态碲镉汞薄膜在退火过程中的成核晶化是在薄膜内部均匀发生的,对于不同晶化程度的薄膜,其光学常数谱具有明显的特征,通过对光学常数谱的分析研究可以对非晶态碲镉汞薄膜的晶化程度进行量化表征,从而控制退火条件,优化材料质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姬荣斌		50	200	7.0	10.0
2	李雄军		24	68	4.0	7.0
3	孔金丞		26	70	4.0	6.0
4	王光华		11	72	4.0	8.0
5	孔令德		12	37	4.0	4.0
6	杨丽丽		8	40	4.0	6.0
7	赵俊		19	57	4.0	6.0
8	张鹏举		6	16	3.0	3.0
9	杨佩原		3	9	2.0	3.0