MH-Ni电池隔膜空心阴极远区等离子体改性

• 作者: 李德成 李志虎 温贻芳 王红卫 芮延年
• 来源期刊: 电池工业
• 学科: 工学
• 关键词: 金属氢化物镍电池(MH-Ni电池) 隔膜 空心阴极远区等离子 表面改性
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 9-13
• 分类号: TM912.2
• 字数: 4235字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-7923.2012.01.002

摘要

利用空心阴极远区等离子体技术对MH-Ni电池隔膜进行改性处理,研究了等离子体处理条件对隔膜性能的影响.采用了红外光谱和SEM对处理前后隔膜表面的化学组成进行了表征分析,通过电化学性能测试,测定了处理前后隔膜电化学性能的变化.结果表明,通过空心阴极远区等离子体改性处理,在电池隔膜的表面引入了亲水性基团,改善了隔膜的浸润性,显著提高了MH-Ni电池的性能指标.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	芮延年	苏州大学机电工程学院	307	1202	15.0	20.0
2	温贻芳	苏州大学机电工程学院	56	116	5.0	8.0
4	李志虎	苏州大学化学电源研究所	6	18	3.0	4.0
5	李德成	苏州大学化学电源研究所	14	34	3.0	5.0
8	王红卫		1	1	1.0	1.0