Si和Y掺杂对(Ti,Al)N涂层结构和性能的影响

• 作者: 刘芳 孙霞 张淑娟 李明升 涂金伟 范永中
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 (Ti,Al)N Si和Y掺杂 抗氧化性能 硬度 结合力
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 页码范围: 99-106
• 页数: 8页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1037.2011.00292

摘要

分别在未施加偏压和施加-100V偏压条件下,利用磁控溅射技术在压气机叶片用1Cr11Ni2W2MoV热强不锈钢基体上沉积了Ti0.3Al0.7N和Ti0.3gAl0.55Si0.05Y0.01N硬质涂层.实验结果表明,施加偏压及Si和Y掺杂明显改变了涂层的相结构,提高了涂层致密度,施加-100 V偏压且添加Si和Y的涂层为非晶结构,表面更加均匀致密.950℃氧化实验表明:Ti0.39Al0.55Si0.05Y0.01N涂层表面形成极薄且致密的Al2O3保护性氧化膜,大大降低了氧化速率.施加-100 V偏压的(Ti,Al)N和(Ti,Al,Si,Y)N沉积态涂层与未施加偏压的相应涂层相比,硬度均降低,尤其是(Ti,Al,Si,Y)N涂层变化显著.经950℃热处理,施加偏压的(Ti,Al,Si,Y)N涂层硬度略有降低,这是由于形成了硬度较低的B4相,而未施加偏压的(Ti,Al,Si,Y)N涂层硬度显著提高,这归因于Bl相固溶体的分解.划痕测试结果表明,在实验载荷(50 N)下,所有涂层均未出现连续性的剥落.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李明升		12	160	8.0	12.0
2	刘芳		16	3	1.0	1.0
3	张淑娟		4	8	2.0	2.0
4	范永中		2	3	1.0	1.0
5	涂金伟		2	0	0.0	0.0
6	孙霞		1	0	0.0	0.0