基于甲基三甲氧基硅烷/正硅酸乙酯的聚碳酸酯耐磨涂层

• 作者: 周克斌 柳沥翔 詹茂盛 陈宇宏
• 来源期刊: 航空材料学报
• 关键词: 甲基三甲氧基硅烷 正硅酸乙酯 耐磨 涂层
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 页码范围: 43-48
• 分类号: TQ630.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-5053.2012.2.008

摘要

以甲基三甲氧基硅烷(MTMS)水解聚合产物作为主要成膜物质,引入正硅酸乙酯(TEOS)水解产物硅溶胶作为无机增强物,采用溶胶凝胶法在聚碳酸酯(PC)表面形成耐磨涂层.结果表明:PC表面形成了Si-O-Si的交联网络结构.通过测试耐磨实验前后光学性能的变化研究表面涂覆涂层的聚碳酸酯的耐磨性能与涂层组分之间的关系.当涂层原料MTMS和TEOS的摩尔比为2:1时,聚碳酸酯的耐磨性能达到最优,500次摩擦后雾度为13.22％,为纯PC的56.21％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈宇宏	北京航空航天大学材料科学与工程学院空天材料与服役教育部重点实验室	22	147	7.0	11.0
5	周克斌		2	19	2.0	2.0
6	柳沥翔	北京航空航天大学材料科学与工程学院空天材料与服役教育部重点实验室	4	25	3.0	4.0
7	詹茂盛	北京航空航天大学材料科学与工程学院空天材料与服役教育部重点实验室	76	836	16.0	26.0