激光直写制备薄膜铂电阻技术研究

• 作者: 匡艳 吴云峰 吴波
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 薄膜铂电阻 激光直写 图形填充 扫描振镜
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 激光与光电子技术应用
• 页码范围: 379-381
• 分类号: TN249
• 字数: 1980字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2012.03.024

摘要

为了研究激光直写技术在制备薄膜铂电阻中的应用,采用激光直写制备了薄膜厚度为2μm的铂电阻.探讨了激光直写技术制备薄膜铂电阻的原理,以条形铂电阻为例,研究了激光参量对铂电阻形状的影响,在最优的激光脉冲频率18kHz、激光扫描速率100mm/s的参量下,制备了实际电阻约为0.37Ω的条形薄膜铂电阻,最后检验了薄膜铂电阻的电阻值.结果表明,铂电阻的宽度分别随激光脉冲频率和激光扫描速率的增大而增大；制备的电阻边缘整齐,表面平整,电阻实际值与理论值只有0.8％的相对误差,吻合很好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴云峰	电子科技大学光电信息学院	106	653	13.0	18.0
2	吴波	电子科技大学光电信息学院	17	73	6.0	7.0
3	匡艳	电子科技大学光电信息学院	2	17	2.0	2.0