纳米孔径重离子微孔膜的制备

• 作者: 刘庆云 刘永辉 吴振东 周剑良
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 重离子 纳米微孔膜 聚对苯二甲酸乙二醇酯 电导蚀刻法
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 技术与应用
• 页码范围: 341-345
• 分类号: TL99
• 语种: 中文

摘要

应用中国原子能科学研究院HI-13串列加速器产生的重离子32S和79Br轰击聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜,再对薄膜进行化学蚀刻处理使由重离子辐照损伤产生的潜径迹形成微孔,制备出孔径为100～900 nm的重离子微孔膜.为增加径迹蚀刻速率与体蚀刻速率之比,化学蚀刻前采用紫外光辐照薄膜.蚀刻过程中采用电导蚀刻法监测膜孔径生长过程.对32S和79Br辐照制备的重离子微孔膜进行了比较,79Br离子辐照制备的微孔膜与32S离子辐照制备的微孔膜相比,孔型圆整,锥角更小；在制备纳米微孔膜方面79Br离子优于32S离子.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘永辉	中国原子能科学研究院核物理研究所	7	17	3.0	4.0
2	周剑良	南华大学核科学技术学院	93	359	9.0	12.0
3	吴振东	中国原子能科学研究院核物理研究所	22	28	3.0	4.0
4	刘庆云	南华大学核科学技术学院	1	6	1.0	1.0