溅射功率对磁控溅射制备Bi薄膜结构和性能的影响

• 作者: 何智兵 廖国 李俊 许华 谌加军 陈太红
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 直流磁控溅射 Bi薄膜 溅射功率
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 技术及应用
• 页码范围: 749-753
• 分类号: O484
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控溅射方法在不同功率下制备了铋(Bi)薄膜,对薄膜的沉积速率、表面形貌、生长模式、晶体结构进行了研究,并对其晶粒尺寸和应力的变化规律进行了分析.扫描电镜(SEM)图像显示:薄膜均为柱状生长,平均晶粒尺寸随溅射功率先增大后减小,薄膜的致密度随着功率的增加而降低,在60 W时又变得较致密.X射线衍射(XRD)结果表明:Bi薄膜均为多晶斜六方结构,薄膜内应力随功率的增加由张应力变为压应力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许华	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	23	287	9.0	16.0
2	陈太红	西华师范大学物理与电子信息学院	61	155	7.0	9.0
3	何智兵	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	46	212	7.0	11.0
4	李俊	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	25	55	4.0	6.0
5	廖国	西华师范大学物理与电子信息学院	2	11	1.0	2.0
9	谌加军	西华师范大学物理与电子信息学院	3	88	2.0	3.0