常压烧结制备氧化钨陶瓷靶材的致密化研究

• 作者: 尚福亮 张忠健 杨海涛
• 来源期刊: 陶瓷学报
• 学科: 工学
• 关键词: 靶材 WO3 常压烧结 致密
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 页码范围: 31-35
• 分类号: TQ174.75
• 字数: 3058字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-2278.2012.01.007

摘要

采用常压固相烧结工艺,制备出高纯度、高致密度的氧化钨靶材.考察了粉体粒度、成型压强、烧结温度和保温时间等对靶材致密度的影响.测试结果表明,以粒度0.27μm的粉体为原料,成型压强为60MPa,烧结温度为1200℃,保温时间为lh的条件下,可以制备出高致密度的氧化钨靶材,其组成为高纯的单斜晶相.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨海涛	深圳大学材料学院深圳市特种功能材料重点实验室	18	56	5.0	6.0
2	尚福亮	深圳大学材料学院深圳市特种功能材料重点实验室	10	38	4.0	6.0
3	张忠健		18	214	9.0	14.0