PECVD反应室的气流场模拟分析

• 作者: 李桂琴 王成刚 陆利新
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: CFD 均匀布气 数值模拟 PECVD
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 42-46
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.03.010

摘要

本文利用计算流体力学(CFD)方法对某等离子增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)反应室流场进行了数值模拟研究,通过改变匀流板布孔方式、进气管与匀流板距离、进气管出口形状和角度、压强等条件,研究反应器内流动的相应变化,给出了获得薄膜生长所需的最佳输运过程的条件,以形成稳定均匀的流场,从而保证薄膜的生长质量.根据本文优化后的匀流装置已实际加工应用,取得良好效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陆利新	上海大学上海市机械自动化与机器人重点实验室	11	34	3.0	5.0
2	李桂琴	上海大学上海市机械自动化与机器人重点实验室	20	104	5.0	9.0
3	王成刚	上海大学上海市机械自动化与机器人重点实验室	5	21	3.0	4.0