深紫外宽入射角范围增透膜设计与制备

• 作者: 李斌成 林大伟 蒲玲琳
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 深紫外 增透膜 宽入射角范围 剩余反射率
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 13-17
• 分类号: TN23|O484.4+1
• 字数: 4745字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2012.05.003

摘要

在大数值孔径深紫外光学系统中,需要使用宽入射角范围的增透膜光学元件.选择LaF3和MgF2两种镀膜材料,设计了适用于深紫外宽入射角范围的三层、五层和七层三种增透膜系.实验使用热舟蒸发在熔融石英基底上镀制了设计的薄膜,并用紫外分光光度计对其光谱性能进行了测试,得到了在宽入射角范围内具有较高透过率的深紫外增透膜元件.双面镀五层增透膜系的熔石英基片在0°～55°入射角内的剩余反射率小于2.5％,在0°～20°入射角内的透过率大于98％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李斌成	中国科学院光电技术研究所	45	325	10.0	15.0
2	林大伟	中国科学院光电技术研究所	8	25	3.0	5.0
3	蒲玲琳	中国科学院光电技术研究所	1	0	0.0	0.0