硅基自由曲面光学微透镜阵列制作及光学性能研究

• 作者: 冷雁冰 孙艳军 董连和 陈哲
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 自由曲面 变剂量曝光 光刻 蚀刻
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 系统与设计
• 页码范围: 44-47
• 分类号: TH706
• 字数: 2578字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2012.01.009

摘要

针对自由曲面无固定解析式的特点,根据感光材料的光化学作用原理,以及曝光能量与曝光深度的制约关系,提出采用变剂量曝光的光刻方法制作自由曲面光学微器件.从光传播理论出发,分析了曝光过程光刻胶中光能量分布规律和曝光深度随曝光能量的变化关系,建立了光分布规律的数学模型,并应用计算机软件对模型进行仿真.结果表明:光能量在胶膜内呈规律性分布,在能量一定的情况下曝光深度随时间规律性增加,并逐渐达到饱和.同时,应用长春理工大学BOL500型复合坐标激光直写系统,选用美国Futurrex62A光刻胶、波长412 nm He-Ge气体激光器、5％NaOH显影液进行曝光及显影实验,所得实验数据与仿真结果吻合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董连和	长春理工大学光电工程学院	45	151	7.0	11.0
2	孙艳军	长春理工大学光电工程学院	36	106	6.0	9.0
3	冷雁冰	长春理工大学光电工程学院	34	117	6.0	10.0
4	陈哲	长春理工大学光电工程学院	12	45	3.0	6.0