共晶焊料焊接的孔隙率研究

• 作者: 丁荣峥 明雪飞 陈波 高娜燕
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 共晶摩擦 合金烧结 孔隙率
• 年，卷（期）: 2012,（11）
• 页码范围: 9-12
• 分类号: TN305.94
• 字数: 2515字
• 语种: 中文

摘要

大功率或高功率密度的高可靠集成电路等通常采用合金焊料焊接芯片,以降低封装热阻和提高芯片焊接的可靠性.合金焊料焊接方式主要有真空烧结、保护气氛下静压烧结、共晶摩擦焊等.不同焊接工艺有其不同的适应性和焊接可靠性.文章以高可靠封装常用金基焊料的共晶焊接为例,探讨在相同封装结构、不同共晶焊接工艺下焊接层孔隙率,以及相同工艺设备、工艺条件下随芯片尺寸增大孔隙率的变化趋势.研究结果表明:金-硅共晶摩擦焊工艺的孔隙率低于金-锡真空烧结工艺和金-锡保护气氛静压烧结;同一焊接工艺,随着芯片尺寸变大,其孔隙率变化不显著,但单个空洞的尺寸有明显增大趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁荣峥		19	65	4.0	7.0
2	陈波		31	45	3.0	6.0
3	高娜燕		9	23	3.0	4.0
4	明雪飞		8	35	3.0	5.0