用于红外焦平面阵列非均匀性校正的辐射参考源

• 作者: 刘崇亮 范永杰 金伟其 金明磊
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 非均匀性校正 面源黑体 辐射挡板 热电参考源 U型边框黑体
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 383-388
• 分类号: TN219
• 字数: 3323字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2012.07.002

摘要

概述了4种红外焦平面阵列非均匀性过程中使用到的参考源.成为产品前,通常使用面源黑体作为参考源对红外焦平面阵列进行非均匀性校正；在热成像系统应用中动态非均匀性校正中,普遍使用的辐射挡板由于没有连有控温装置,只能进行一点校正,在场景温度偏离校正温度时,校正效果会受到影响；美国第三代前视红外成像系统中使用连有热电制冷器的热电参考源,利用热电制冷器对发射表面进行控温,可实现两点校正算法；为基于边框的SBNUC校正算法设计的U型边框黑体光阑,对视场中心没有遮挡,利用半导体制冷器对U型边框黑体光阑的进行控温,能根据场景信息自适应地实现的两点校正.