纳米尺度标准样片光学表征方法的研究

• 作者: 傅云霞 吴俊杰 李源 蔡潇雨 雷李华 高婧
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米尺度标准样片 光学表征方法 跨尺度 镀膜技术 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 406-412
• 分类号: TH711
• 字数: 3102字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2012.06.009

摘要

重点研究了纳米尺度标准样片的光学表征方法.采用基于纳米测量机(NMM)的激光聚焦传感器(LFS)和扫描白光干涉传感器(SWLIS)分别对平面尺度的标准样片和台阶标准样片进行了测量、分析与比较.实验结果表明,利用该纳米测量机LFS对标定值为3μm的TGZ1一维栅格样片进行测量,其扩展不确定度为4,2 nm,实现了精确表征.利用SWLIS测量方法对标定值为49.217 μm的SHS8 - 50.0高台阶标准样板进行测量,测量不确定度分析结果为0.065 7 μm,实现了采用光学检测技术跨尺度对纳米尺度精密器件和结构进行表征.扩大了基于纳米测量机光学表征方法的应用范围,有利于纳米几何量量值溯源体系的建立.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅云霞		30	86	6.0	7.0
2	雷李华		15	48	4.0	6.0
3	李源		19	84	6.0	8.0
4	蔡潇雨		11	37	4.0	5.0
5	高婧		4	9	1.0	3.0
6	吴俊杰		3	10	1.0	3.0