正脉冲电镀法制备φ33mm模拟镍源

• 作者: 杨玉青 罗顺忠 胡睿 董文丽 钟正坤 阚文涛
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 脉冲电镀 58Ni 沉积率
• 年，卷（期）: 2012,（z1）
• 所属期刊栏目: 化学
• 页码范围: 174-179
• 分类号: TL99|TM910.2
• 语种: 中文

摘要

mA量级直流恒流电源具有过保护电压较低的缺点,不适于制作大面积、高活度63Ni放射源.本文以正脉冲电源为解决方案,系统研究在简单组分的镀镍溶液中,各工艺条件对电镀结果的影响.研究结果表明,在阴极电流密度为18 mA/cm2、室温、脉宽80％、频率5 kHz条件下电镀2.5h,可获得95％以上的58 Ni沉积率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗顺忠	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	163	805	12.0	20.0
2	钟正坤	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	26	99	6.0	8.0
3	杨玉青	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	42	95	5.0	7.0
4	胡睿	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	36	108	6.0	8.0
5	阚文涛	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	9	23	3.0	4.0
6	董文丽	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	2	0	0.0	0.0