直流磁控溅射法低温制备GZO∶Ti薄膜及其光电性能研究

• 作者: 李洁 郭美霞
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: GZO∶Ti薄膜 透明导电薄膜 溅射压强 溅射功率 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 功能保膜
• 页码范围: 324-327
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2012.04.11

摘要

用直流磁控溅射法在玻璃衬底上成功制备出了钛镓共掺杂氧化锌(GZO∶Ti)透明导电薄膜,研究了溅射压强和功率对GZO∶Ti薄膜的微观结构和光电性能的影响.研究结果表明,所制备的GZO∶Ti薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向.溅射压强和功率对薄膜的电阻率和微观结构均有显著影响.随功率增大,薄膜电阻率降低,生长率增大.所制备的薄膜的最小电阻率为1.81×10-4Ω·cm,可见光区平均透过率大于84％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭美霞	山东理工大学理学院	8	40	5.0	6.0
2	李洁	山东理工大学理学院	4	28	2.0	4.0