制冷型红外焦平面系统冷反射效应的分析与控制

• 作者: 刘洋 安晓强
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光学设计 冷反射 焦平面 光线追迹 红外系统
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 光学设计与制造
• 页码范围: 274-280
• 页数: 7页
• 分类号: TN216
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201232.0222007

摘要

利用光学不变量对焦平面系统进行近轴分析,得到了量化焦平面系统冷反射集中程度和变化率的两个一阶参量.以热辐射理论为基础,推导并总结了冷反射引入温差(NITD)和成像系统参数及环境参数的关系式.以焦距为90 mm,视场角4°,F数2.75的中波焦平面成像系统为例,在CODE V软件中对其冷反射效应进行了定量分析,并以一阶参量为约束,实光线追迹辅助验证的方式进行了冷反射优化,优化后光学系统的冷反射降低了70％.在杂光分析软件(ASAP)中根据系统的实际参数对冷反射分布进行了模拟,结果表明对冷反射进行优化控制后,系统的NITD减小到了预设值之下,冷反射效应得到了很好的控制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	安晓强		13	54	5.0	7.0
2	刘洋		4	7	1.0	2.0