超疏水CF4等离子体改性PVDF膜及其DCMD性能

• 作者: 何涛 李雪梅 殷勇 沈周 王周为 魏星
• 来源期刊: 南京工业大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: CF4等离子体 表面改性 PVDF膜 膜蒸馏
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 页码范围: 96-100
• 分类号: TQ028.8|O631
• 字数: 2208字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7627.2012.04.019

摘要

采用低温CF4等离子体技术,通过化学气相沉积,将一般疏水聚偏氟乙烯(PVDF)膜表面成功改性为接触角为169.5°±4.9°的超疏水表面,研究改性后的超疏水膜的直接接触式膜蒸馏(DCMD)过程.结果表明:当进料液为4％的NaCl溶液时,高温侧温度70.5℃,改性膜通量为26.5 kg/(m2·h),截留率高达99.976 6％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何涛	南京工业大学化学化工学院材料化学工程国家重点实验室	87	922	16.0	26.0
3	李雪梅	中国科学院上海高等研究院	67	878	16.0	28.0
6	魏星	南京工业大学化学化工学院材料化学工程国家重点实验室	5	30	2.0	5.0
7	王周为	中国科学院上海高等研究院	5	56	5.0	5.0
8	殷勇	中国科学院上海高等研究院	2	25	2.0	2.0
9	沈周	南京工业大学化学化工学院材料化学工程国家重点实验室	1	18	1.0	1.0