TiO2纳米管薄膜的脱层现象

• 作者: WANG Ri-zhi 邹俭鹏
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 关键词: TiO2纳米管 界面剪切强度 脱层行为 脱层密度 脱层半径 内残余应力
• 年，卷（期）: 2012,（11）
• 页码范围: 2691-2699
• 页数: 9页
• 字数: 1008字
• 语种: 英文
• DOI: 10.1016/S1003-6326(11)61519-7

摘要

分别通过曲率法和基体拉伸应变测试方法研究TiO2纳米管薄膜的残余应力和脱层行为.结果表明:TiO2纳米管薄膜的内残余应力为-54 MPa.TiO2纳米管薄膜室温样、250℃退火样和400℃退火样的脱层出现点的应变依次为2.6％、5.1％和8.6％,半径依次为27.5、17.1和19.4 μm.TiO2纳米管薄膜室温样、250℃退火样和400℃退火样的真实临界脱层应力为220.4、394.5和627.9 MPa.在脱层条件下,对界面剪滞模型进行修订,并对TiO2纳米管薄膜界面剪切强度进行多项式拟合.由于拟合结果与裂纹密度的分析结果能很好吻合,因此界面剪滞模型的修订方程和多项式拟合方程均为可信的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邹俭鹏	中南大学粉末冶金国家重点实验室	58	587	14.0	22.0