美开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜

• 来源期刊: 中国集成电路
• 学科: 工学
• 关键词: 晶体薄膜 过程开发 半导体 无缺陷 纳米 美国麻省理工学院 电子束光刻技术 物理学家
• 年，卷（期）: 2012,（9）
• 所属期刊栏目: 业界要闻
• 页码范围: 6-6
• 页数: 1页
• 分类号: TB497
• 字数: 1191字
• 语种: 中文

摘要

据物理学家组织网近日报道，美国麻省理工学院的研究人员利用电子束光刻技术和剥离过程开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜。这是一种很有前途的新材料，可广泛应用并开辟潜在的重点研究领域。相关报告发表在近期出版的《纳米快报》杂志网络版上。