2～20GHz分布式单片放大器设计

• 作者: 朱思成 陈兴 高学邦
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 宽带 分布式放大器 单片电路 GaAs PHEMT 低噪声
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 所属期刊栏目: 集成电路设计、制造与应用
• 页码范围: 594-597
• 分类号: TN43|TN722.75
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2012.08.003

摘要

介绍了一种采用0.15 μm GaAs PHEMT工艺设计加工的2～20 GHz宽带单片放大器,为了提高电路的整体增益和带宽,在设计电路时采用两级级联分布式结构.此种电路结构不仅能够增加整体电路的增益和带宽,还可以提高电路的反向隔离,获得更低的噪声系数.利用Agilent ADS仿真设计软件对整体电路的原理图和版图进行仿真优化设计.后期电路在中国电子科技集团公司第十三研究所砷化镓工艺线上加工完成.电路性能指标:在2 ～ 20 GHz工作频率范围内,小信号增益＞13.5 dB;输入输出回波损耗＜-9 dB；噪声系数＜4.0 dB；P-1＞13 dBm.放大器的工作电压5V,功耗400 mW,芯片面积为3.00 mm×1.6 mm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高学邦	中国电子科技集团公司第十三研究所	38	175	8.0	9.0
2	朱思成	中国电子科技集团公司第十三研究所	6	15	2.0	3.0
3	陈兴	中国电子科技集团公司第十三研究所	5	26	3.0	5.0