深紫外激光对GaN薄膜的激光抛光研究

• 作者: 丁莉云 戴玉堂 肖翔 陈赛华
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 深紫外激光 GaN薄膜 激光抛光 微平面 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 激光与光电子技术应用
• 页码范围: 13-15,36
• 分类号: TN249
• 字数: 2750字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2012.01.004

摘要

为了研究157nm深紫外激光的激光抛光加工特性,采用小光斑对GaN半导体薄膜进行了微平面扫描刻蚀.通过探讨激光工艺参量与激光抛光质量的影响关系,得到了最佳的工艺参量范围.结果表明,随着激光抛光扫描速率的增加,材料加工表面粗糙度值Ra逐渐减小,其中扫描速率在0.014mm/s～0.015mm/s处,激光抛光质量最高;而激光抛光扫描间距的减小,或者脉冲频率的增加,都将导致被加工表面粗糙度增大;当脉冲频率取8Hz时,抛光效果较好,表面粗糙度值Ra≈20nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴玉堂	武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室	40	174	7.0	12.0
2	陈赛华	武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室	3	11	2.0	3.0
3	肖翔	武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室	6	7	1.0	2.0
4	丁莉云	武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室	1	7	1.0	1.0