单槽脉冲电沉积制备铜/镍纳米多层膜及其性能

• 作者: 任凤章 朱宏喜 顾超
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 铜 镍 纳米多层膜 脉冲电沉积 单槽 显微硬度 应力
• 年，卷（期）: 2012,（10）
• 所属期刊栏目: 电沉积技术
• 页码范围: 7-10
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.12
• 字数: 3677字
• 语种: 中文

摘要

用单槽脉冲电沉积法在含CuSO4、NiSO4和Na3C6H5O7的镀液中制备了不同调制波长的Cu/Ni纳米多层膜,对其进行了截面形貌观察及显微硬度测量.结果表明,制备的多层膜平整,层间界清晰.其显微硬度在调制波长为100 nm时出现峰值.当调制波长大于100 nm时,多层膜显微硬度的变化符合Hall-Petch关系；当调制波长小于100 nm时,显微硬度开始下降.X射线衍射表明,膜层中存在压应力,Ni层形成了强(100)织构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任凤章	河南科技大学材料科学与工程学院	221	1239	16.0	22.0
3	顾超	河南科技大学材料科学与工程学院	6	12	2.0	3.0
6	朱宏喜	河南科技大学材料科学与工程学院	20	29	3.0	4.0