无支撑优质金刚石膜研制中的相关问题探讨

• 作者: 丁明清 冯进军 李莉莉
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微波等离子体化学气相沉积 无支撑优质金刚石膜 沉积速率 晶面择优取向 内应力
• 年，卷（期）: 2012,（10）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 884-888
• 分类号: TB75
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2012.10.06

摘要

无支撑优质金刚石膜在微波真空器件和光学器件中的广泛应用,有赖于制备成本的下降和工艺的完善.结合微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)金刚石膜的工艺研究结果,本文就沉积速率、晶面取向以及内应力的相关问题进行了初步探讨.对于给定的设备,沉积速率与多种因素有关,包括膜的质量、膜厚均匀性和有效沉积面积、以及形核的密度.在通常情况下,金刚石膜呈(111)择优取向,而样品位置下移5mm后,观察到(100)取向.对内应力的初步研究表明,CH4/H2比例较低(1.5)时,金刚石膜的内应力趋向于压应力,而(100)取向的出现则有助于使内应力降到最低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯进军	微波电真空器件国家级重点实验室北京真空电子技术研究所	3	5	2.0	2.0
2	丁明清	微波电真空器件国家级重点实验室北京真空电子技术研究所	2	5	2.0	2.0
3	李莉莉	微波电真空器件国家级重点实验室北京真空电子技术研究所	2	5	2.0	2.0