Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响

• 作者: MUDERS C M 姜辛 孙超 宫骏 时婧 裴志亮
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁过滤电弧离子镀 Ti-Al-Si-N薄膜 纳米硬度 结合强度
• 年，卷（期）: 2012,（11）
• 页码范围: 1349-1356
• 页数: 8页
• 分类号: TG174.44|O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1037.2012.00328

摘要

利用磁过滤电弧离子镀技术在高速钢基体上制备了不同Si含量的Ti-Al-Si-N薄膜,研究了Si含量对薄膜组织结构以及力学性能的影响.结果表明,Ti-Al-Si-N薄膜主要由晶态TiAlN和非晶态的Si3N4组成,随着Si含量的增加,XRD衍射峰强度减弱,晶粒尺寸减小;薄膜的显微组织也由明显的柱状晶转变为致密的纳米晶结构.利用纳米硬度仪对薄膜的硬度和弹性模量进行了分析,结果表明,薄膜的硬度和弹性模量有着相似的变化趋势,随着Si含量的增加,两者都先增加,当Si含量达到一定程度时,它们会逐渐稳定在一定范围内,而后又随Si含量的继续增加呈下降趋势.通过划痕测试对薄膜结合强度进行了分析,结果表明,薄膜与基体的结合强度随Si含量的增加先减小而后增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙超	中国科学院金属研究所	126	1708	23.0	34.0
2	宫骏	中国科学院金属研究所	52	464	12.0	20.0
3	裴志亮	中国科学院金属研究所	19	425	12.0	19.0
4	姜辛	中国科学院金属研究所	3	0	0.0	0.0
5	时婧	中国科学院金属研究所	1	0	0.0	0.0
6	MUDERS C M	中国科学院金属研究所	1	0	0.0	0.0