CVD温度对钽涂层组成、显微组织及形貌的影响

• 作者: 王云 胡昌义 蔡宏中 陈力 魏巧灵
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 钽涂层 相组成 显微组织 形貌
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 563-567
• 分类号: TG146.4+16
• 字数: 3159字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2012.04.010

摘要

利用TaCl2-H2-HCl反应体系,采用冷壁式化学气相沉积法(CVD)在钼基体表面沉积钽涂层.通过X射线衍射仪、金像显微镜及扫描电镜等手段,对不同沉积温度下钽涂层的组成、组织及形貌进行了研究.结果表明:在1000～1300℃范围内,钽沉积层的相组成无变化,而对择优生长有一定影响；钽沉积层晶粒尺寸随沉积温度的升高而增大；钽沉积层表面颗粒呈金字塔形多面体且随沉积温度的升高而增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡昌义	稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室昆明贵金属研究所	3	30	3.0	3.0
2	蔡宏中	稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室昆明贵金属研究所	1	9	1.0	1.0
3	魏巧灵	稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室昆明贵金属研究所	1	9	1.0	1.0
4	陈力	稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室昆明贵金属研究所	1	9	1.0	1.0
5	王云	稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室昆明贵金属研究所	1	9	1.0	1.0