磁控溅射结合快速热处理制备相变氧化钒薄膜

• 作者: 后顺保 吕志军 栗力 梁继然 胡明 陈涛
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射 氧化钒薄膜 相变 快速热处理 光电性能
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 材料与结构
• 页码范围: 27-32,55
• 分类号: TN304.21|TN305.92
• 字数: 3207字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2012.01.005

摘要

采用直流对靶磁控溅射结合快速热处理工艺制备了具有金属-半导体相变特性的氧化钒(VOx)薄膜.利用XRD,XPS和SEM对薄膜结晶结构、薄膜中V的价态与组分及表面微观形貌进行分析,利用四探针测试法及太赫兹时域频谱系统对薄膜的电学和光学特性进行测量.结果表明:新制备VOx薄膜以非晶态V2O5为主；350℃,30 s快速热处理后,薄膜中V的整体价态降低,表面颗粒分布更加致密；500℃,30 s快速热处理后,薄膜中VO2 (002)向单斜结构的VO2 (011)转变,VO2 (011)占主要成分,薄膜显示出明显的金属-半导体相变特性,方块电阻下降达到3个数量级,太赫兹透过率下降接近70％,热致相变性能良好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡明	天津大学电子信息工程学院	139	1336	19.0	28.0
2	梁继然	天津大学电子信息工程学院	31	108	6.0	8.0
3	后顺保	天津大学电子信息工程学院	6	18	3.0	4.0
4	陈涛	天津大学电子信息工程学院	45	397	10.0	19.0
5	吕志军	天津大学电子信息工程学院	5	11	2.0	3.0
6	栗力	天津大学电子信息工程学院	2	6	1.0	2.0