热处理温度对ZnO薄膜结构特性的影响

• 作者: 刘志学 张冰 陈薇薇
• 来源期刊: 牡丹江师范学院学报：自然科学版
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 ZnO 退火温度
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 13-14
• 页数: 2页
• 分类号: O572.242
• 字数: 2011字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-6180.2012.01.007

摘要

采用射频磁控溅射法在玻璃基底上制备出具有C轴择优取向的ZnO透明导电薄膜，利用X射线衍射仪、隧道扫描显微镜、紫外一可见分光光度计、霍尔效应仪等仪器分析退火温度对ZnO薄膜的表面形貌、光电性能的影响．结果表明，随着退火温度的升高，薄膜的结晶质量提高，晶粒尺寸变大，薄膜的致密性提高，薄膜在可见光范围的平均透射率达到80％以上，并且电学性能有所提高．

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张冰	牡丹江师范学院黑龙江省新型碳基功能与超硬材料重点实验室	26	50	4.0	6.0
2	刘志学	牡丹江师范学院黑龙江省新型碳基功能与超硬材料重点实验室	22	14	3.0	3.0
3	陈薇薇	牡丹江师范学院黑龙江省新型碳基功能与超硬材料重点实验室	11	30	3.0	4.0