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BST薄膜对GaN衬底的传输特性影响
BST薄膜对GaN衬底的传输特性影响
作者:
叶育红
周骏
李辉
沈亚
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
钛酸锶钡
氮化镓
传输特性
摘要:
钛酸锶钡(BST)薄膜是一种重要的铁电薄膜,应用广泛,是高新技术研究的前沿和热点之一.文章重点讨论了不同结构的BST薄膜对GaN传输线的传输特性影响,分析了不同的BST薄膜材料参数对传输性能的影响.实验证明,未电镀的传输线空洞较多,直流电阻变大,生长了BST薄膜的传输线插损约为0.32dB/mm,不同的薄膜材料参数对传输特性的影响也很明显,随着介电常数、膜厚以及损耗角的增大,传输线有效介电常数变大,特性阻抗减小.为基于磁电效应的GaN功率放大器设计提供了一定的借鉴.
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篇名
BST薄膜对GaN衬底的传输特性影响
来源期刊
电子与封装
学科
工学
关键词
钛酸锶钡
氮化镓
传输特性
年,卷(期)
2012,(5)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
31-34
页数
分类号
TN305
字数
1691字
语种
中文
DOI
五维指标
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1
沈亚
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李辉
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氮化镓
传输特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子与封装
主办单位:
中国电子科技集团公司第五十八研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1681-1070
CN:
32-1709/TN
开本:
大16开
出版地:
江苏无锡市惠河路5号(208信箱)
邮发代号:
创刊时间:
2002
语种:
chi
出版文献量(篇)
3006
总下载数(次)
24
总被引数(次)
9543
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