用KI、CsCl和丙烯酰胺对黑豆(Glycine max var.)凝集素Ⅰ(GMLⅠ)进行内源荧光淬灭研究.天然黑豆凝集素Ⅰ在280 nm波长激发下显示λmax为339 nm的内源荧光发射光谱,表明凝集素荧光生色基团位于相对疏水的环境中;3种淬灭剂对GMLⅠ的荧光淬灭属于动态淬灭机制.GMLⅠ分子的生色基团Trp残基对中性淬灭剂丙烯酰胺的可接近程度为100%,而对阴离子淬灭剂KI的可接近程度为81.6%,对阳离子淬灭剂CsCl的可接近程度为52.8%,表明GMLⅠ中大部分Trp残基位于分子表面或近表面,只有小部分包埋于分子内部的疏水性环境中,并且Trp残基周围所处微环境带正电荷的比例比带负电荷的比例高.