SmCo5硬磁薄膜的制备研究

• 作者: 代波 邵晓萍 雷勇
• 来源期刊: 四川师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: SmCo5薄膜 共溅射 退火温度 矫顽力
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 页码范围: 105-108
• 分类号: TM273|TB43
• 字数: 2072字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8395.2012.01.023

摘要

以Cr层为底层和保护层,采用直流共溅射的方法在Si基片上制备了Cr( 80 nm)/SmCo5( 300nm)/Cr(8 nm)薄膜,并对样品进行550℃保温30 min的退火,然后分别利用EDX射线能谱仪、X射线衍射仪、原子力显微镜、振动样品磁强计分析研究了退火前后SmCo5薄膜样品的成分、结构、表面形貌、磁学性能及其变化规律.结果表明:在10-4 Pa真空环境下,SmCo5薄膜在550℃退火,保温30 min后具有较好的硬磁性能,矫顽力Hc为1 738 Oe.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	代波	西南科技大学材料科学与工程学院	16	156	5.0	12.0
2	雷勇	西南科技大学材料科学与工程学院	2	0	0.0	0.0
3	邵晓萍	西南科技大学材料科学与工程学院	4	121	3.0	4.0