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射频磁控溅射法制备硼薄膜
硼薄膜
射频磁控溅射
制备
形貌表征
成分分析
磁控溅射沉积U薄膜性能研究
U薄膜
组织
结构
密度
靶材密度对射频磁控溅射法制备ITO薄膜性能的影响
氧化锡铟(ITO)
靶材密度
薄膜
射频磁控溅射
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 磁控溅射法沉积TCO薄膜的电源技术
来源期刊 UPS应用 学科 工学
关键词 透明导电氧化物薄膜 TCO 磁控溅射法 电源技术 OLED显示器 薄膜太阳能电池 感应电极 沉积
年,卷(期) 2012,(10) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 51-60
页数 10页 分类号 TN86
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈宇 7 6 2.0 2.0
2 李民英 13 2 1.0 1.0
传播情况
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引文网络
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2012(0)
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研究主题发展历程
节点文献
透明导电氧化物薄膜
TCO
磁控溅射法
电源技术
OLED显示器
薄膜太阳能电池
感应电极
沉积
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
UPS应用
月刊
1726-5924
北京市西城区北三环中路甲29号华尊大厦B座1502室
出版文献量(篇)
8014
总下载数(次)
29
总被引数(次)
0
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