基于SVM及多目标遗传算法的光刻热点检测

• 作者: 曹葵康 杨祎巍 沈海斌
• 来源期刊: 电路与系统学报
• 学科: 工学
• 关键词: 可制造性设计 光刻热点 离散余弦变换 支持向量机 遗传算法
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 26-30
• 分类号: TP391.41
• 字数: 3863字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-0249.2012.03.006

摘要

提出一种基于支持向量机( SVM)及多目标遗传算法(GA)的集成电路版图光刻热点检测方法.首先对版图样本进行离散余弦变换(DCT)以提取样本的频域特征,然后基于这些样本训练SVM分类器以实现对光刻热点的检测.采用多目标遗传算法(GA)对频域特征进行选择,并同时优化SVM分类器的相关参数.实验结果表明,本光刻热点检测方法可以有效提高版图光刻热点检测的精度和效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈海斌	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	139	832	13.0	21.0
2	曹葵康	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	4	11	2.0	3.0
3	杨祎巍	华南理工大学电子与信息学院	4	6	1.0	2.0