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摘要:
文章通过分析总剂量辐照机理和三极管结构总剂量辐照的瓶颈部位,比较普通和多晶发射极VNPN晶体管结构上的区别,指出多晶发射极结构具有更强的总剂量辐照能力.多晶发射极结构总剂量辐照能力增强是由于该结构EB之间存在多晶+薄氧化层的结构,该结构中多晶屏蔽了顶部厚氧化层辐照效应的影响,而普通结构EB之间则是厚氧化层结构,总剂量辐照能力弱.在对多晶发射极结构总剂量辐照关键部位的分析过程中,对多晶发射极三极管局部结构进行了进一步优化设计,最后给出了多晶发射极结构三极管的辐照实验结果,并对实验结果进行了分析.
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文献信息
篇名 多晶发射极结构三极管抗总剂量能力研究
来源期刊 电子与封装 学科 工学
关键词 总剂量辐照 三极管 多晶发射极结构 辐照实验
年,卷(期) 2012,(7) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 38-40
页数 分类号 TN305
字数 2259字 语种 中文
DOI
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作者信息
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1 顾爱军 3 4 1.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
总剂量辐照
三极管
多晶发射极结构
辐照实验
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子与封装
月刊
1681-1070
32-1709/TN
大16开
江苏无锡市惠河路5号(208信箱)
2002
chi
出版文献量(篇)
3006
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24
总被引数(次)
9543
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