KF-AlF3系溶剂组成对KBF4与Al熔体界面反应的影响

• 作者: 栗争光 沈利 王青亮 赵九洲 赵洪生
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: Al KBF4 AlF3 界面反应 溶剂组成
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 页码范围: 739-743
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.22
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1037.2012.00071

摘要

研究了不同组成的KF-AlF3系溶剂对KBF4与Al熔体界面反应的影响.结果表明,采用不同组成的KF-AlF3系溶剂时,在氟化盐/Al界面处均有铝硼化合物层形成；当采用共晶成分或过共晶成分KF-AlF3溶剂时,铝硼化合物层与Al之间存在的AlF3可使铝硼化合物层与Al局部或完全脱离；当采用亚共晶成分KF-AlF3溶剂时,在氟化盐/Al界面处未观察到AlF3存在.对不同组成KF-AlF3系溶剂和KBF4的反应过程进行了研究,分析了氟化盐/Al界面处AlF3的形成机理.