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摘要:
综述了射频磁控溅射制备钛酸锶钡(BST)薄膜的国内外研究动态,详细阐述了溅射工艺参数(电极、溅射气压、氧分压、温度)对BST薄膜微结构和电性能的影响,提出了射频磁控溅射制备BST薄膜中亟待解决的问题.
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内容分析
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文献信息
篇名 射频磁控溅射制备钛酸锶钡薄膜的研究进展
来源期刊 电子元件与材料 学科 工学
关键词 铁电薄膜 钛酸锶钡 综述 射频磁控溅射 介电性能
年,卷(期) 2012,(5) 所属期刊栏目 综述
研究方向 页码范围 71-75
页数 分类号 TM283
字数 2404字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-2028.2012.05.020
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 蔡苇 重庆科技学院冶金与材料工程学院 80 471 12.0 17.0
2 符春林 重庆科技学院冶金与材料工程学院 77 351 10.0 15.0
3 林泽彬 重庆科技学院冶金与材料工程学院 3 22 3.0 3.0
4 刘行冰 重庆科技学院冶金与材料工程学院 5 14 3.0 3.0
5 宋云霞 重庆科技学院冶金与材料工程学院 3 5 1.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
铁电薄膜
钛酸锶钡
综述
射频磁控溅射
介电性能
研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
月刊
1001-2028
51-1241/TN
大16开
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
62-36
1982
chi
出版文献量(篇)
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总下载数(次)
16
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31758
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