Electron Density and Optical Emission Measurements of SF6/O2 Plasmas for Silicon Etch Processes

M. M. MORSHED; S. M. DANIELS

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Electron Density and Optical Emission Measurements of SF6/O2 Plasmas for Silicon Etch Processes

Electron Density and Optical Emission Measurements of SF6/O2 Plasmas for Silicon Etch Processes

作者：

M. M. MORSHED S. M. DANIELS

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等离子体发射

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篇名	Electron Density and Optical Emission Measurements of SF6/O2 Plasmas for Silicon Etch Processes
来源期刊	等离子体科学和技术：英文版	学科	农学
关键词	等离子体发射电子密度光谱测量蚀刻工艺工艺参数发射光谱发射强度氟原子
年，卷（期）	2012,（4）	所属期刊栏目
研究方向		页码范围	316-320
页数		分类号	O53\|S158.3
字数		语种	英文
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