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基质刻蚀的高功率外腔面发射激光器
基质刻蚀的高功率外腔面发射激光器
作者:
伍瑜
倪演海
周勇
张鹏
戴特力
梁一平
秦莉
范嗣强
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
激光器
外腔面发射激光器
多量子阱
基质刻蚀
光抽运
摘要:
为了降低光抽运外腔面发射激光器的热效应,提高激光器的输出功率,采用液体毛细键合方法将逆序生长的半导体外延片与高热导率的碳化硅散热窗口键合,并用化学刻蚀方法去除外延片的基质.实验研究了用基质刻蚀的外延片搭建的外腔面发射激光器的性能.当增益介质的有源区为InGaAs/AlGaAs多量子阱、抽运源为808nm的光纤耦合输出半导体激光器,输出镜对激光波长透过率为3%时,在室温下获得TEM00模的最大输出功率0.52W,激光波长1018nm,光谱线宽2nm(半峰全宽),激光器的光光转换效率约为20%.测得x方向与y方向的M2因子分别为1.01和1.00,说明输出光束为质量优良的近衍射极限高斯光束.结果表明,基质刻蚀技术可明显改善外腔面发射激光器的热性能,获得高功率、高光束质量的激光输出.
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关键词热度
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文献信息
篇名
基质刻蚀的高功率外腔面发射激光器
来源期刊
激光技术
学科
工学
关键词
激光器
外腔面发射激光器
多量子阱
基质刻蚀
光抽运
年,卷(期)
2012,(2)
所属期刊栏目
激光物理与激光器件
研究方向
页码范围
200-203
页数
分类号
TN248.4
字数
3195字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-3806.2012.02.014
五维指标
传播情况
被引次数趋势
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节点文献
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外腔面发射激光器
多量子阱
基质刻蚀
光抽运
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
激光技术
主办单位:
西南技术物理研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-3806
CN:
51-1125/TN
开本:
大16开
出版地:
四川省成都市238信箱
邮发代号:
62-74
创刊时间:
1971
语种:
chi
出版文献量(篇)
4090
总下载数(次)
10
总被引数(次)
25972
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