新型钢铁无氰镀铜工艺及其应用

• 作者: 周绍民 杨防祖 田中群 蒋义锋 陈明辉
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 钢铁 无氰镀铜 工艺 赫尔槽试验 应用
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 所属期刊栏目: 电镀
• 页码范围: 7-10
• 分类号: TQ153.14
• 字数: 4577字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2012.08.002

摘要

在第一代钢铁无氰镀铜工艺的基础上,开发出第二代无氰碱性镀铜新工艺,成功地解决了镀液的稳定性问题.镀液的基础配方和工艺条件为:CuSO4·5H2O 25.0 g/L,C6H5O7K3·H2O0.2 mol/L,辅助配位剂0.05 mol/L,稳定剂0.2 mol/L,活化剂0.02 mol/L,H3BO3 30g/L,KOH 20 g/L,添加剂10 mL/L,温度45℃,pH 8.8～9.2,电流密度1.0～1.5 A/dm2,阳极为电解铜.在新工艺镀液中引入一价铜稳定剂和活化离子,保证了其稳定应用.通过赫尔槽和挂镀试验研究了镀液组分和工艺条件对镀层性能和电流效率的影响,以及镀液的抗杂质能力.结果表明,在本工艺条件下,所得镀层性能良好,电流效率高于90％,镀液的抗杂质性能优良.本工艺适用于钢铁、铜合金预镀铜.经数月的连续生产,镀液保持稳定,产品结合力合格.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田中群	厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室	103	779	14.0	23.0
2	杨防祖	厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室	57	701	16.0	23.0
3	周绍民	厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室	47	624	15.0	22.0
4	蒋义锋	厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室	6	27	3.0	5.0
5	陈明辉	厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室	7	26	2.0	5.0