还原温度对Co/ZnO催化剂的F-T合成反应性能影响

• 作者: 宁文生 杨守斌 王小琴 邸琬茗 陈涛
• 来源期刊: 工业催化
• 学科: 化学
• 关键词: 催化剂工程 Co/ZnO催化剂 F-T合成 还原温度
• 年，卷（期）: 2012,（11）
• 所属期刊栏目: 催化剂制备与研究
• 页码范围: 6-8
• 页数: 3页
• 分类号: TQ426.6|O643.36
• 字数: 2004字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-1143.2012.11.002

摘要

采用沉淀-浸渍法制备Co/ZnO催化剂,研究还原温度对Co/ZnO催化剂F-T合成反应性能影响.结果表明,催化剂Co/ZnO适宜在较低温度还原,Co负载质量分数5％和10％的催化剂最佳还原温度分别为260℃和250℃.还原温度与催化剂活性之间的关系取决于Co/ZnO催化剂上Co的分布状态,氧化态Co以约50 nm的颗粒存在于ZnO表面,容易被氢还原.低温还原的Co基催化剂是浆态床F-T合成的良好催化剂.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宁文生	浙江工业大学化学工程与材料学院	27	118	7.0	9.0
2	王小琴	浙江工业大学化学工程与材料学院	3	15	2.0	3.0
3	陈涛	浙江工业大学化学工程与材料学院	16	43	4.0	6.0
4	邸琬茗	浙江工业大学化学工程与材料学院	4	21	3.0	4.0
5	杨守斌	浙江工业大学化学工程与材料学院	2	13	2.0	2.0