Ti靶及TiO2靶溅射TiO2薄膜微观形貌、结构及光学性质研究

• 作者: 卫会云 巩毛毛 张笑妍 邢杰 都会颖
• 来源期刊: 化工新型材料
• 学科: 化学
• 关键词: TiO2薄膜 退火 锐钛矿 金红石
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 科学研究
• 页码范围: 100-102,120
• 分类号: O614.411
• 字数: 2766字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3536.2012.03.032

摘要

利用射凝磁控溅射技术通过Ti靶及TiO2靶在氩氧气氛中同时溅射制备TiO2薄膜,并对所得的样品进行不同温度的退火处理.采用X射线衍射、扫描电子显微镜、拉曼光谱和吸收谱研究了不同的靶材及退火温度对TiO2薄膜晶体结构、微观形貌及光学性质的影响.结果表明:由于靶材的不同,Ti靶溅射时氧分压较低,造成薄膜中存在大量的氧缺陷,晶相发育不完善,颗粒相比TiO2靶溅射时较小,从XRD和拉曼光谱来看,Ti靶溅射得到的TiO2薄膜更有利于金红石相的形成.薄膜的透过率随退火温度的升高而降低,TiO2靶材溅射的薄膜的光学带隙随温度升高而明显降低,而Ti靶得到的薄膜的光学带隙对退火温度的依赖关系不明显.