磁控溅射法制备铁氧体薄膜的磁性能研究

• 作者: 徐小玉 王乾
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 铁氧体薄膜 软磁性能 磁控溅射 饱和磁化强度 矫顽力
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 研究快报
• 页码范围: 916-919
• 分类号: TM277
• 字数: 4119字
• 语种: 中文

摘要

采用溶胶-凝胶法制备纳米晶镍锌钴铁氧体/二氧化硅复合粉体,并将该粉体制成靶材.采用磁控溅射法在单晶硅基底和玻璃基底上沉积镍锌钴铁氧体复合薄膜,并对其进行磁性能研究.研究结果表明:镍锌钴铁氧体/二氧化硅复合薄膜具有较好的软磁性能;在相同的溅射条件下,两种基片上的薄膜的矫顽力都较小,但硅基片上薄膜的饱和磁化强度较玻璃基片上的大,软磁性能更好;经后退火处理,薄膜的饱和磁化强度得到明显地提高,软磁性能得到改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王乾		58	162	7.0	10.0
2	徐小玉		10	39	2.0	6.0