磁控溅射制备Zr膜的应力研究

• 作者: 张传军 曹鸿 王善力 褚君浩
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 自支撑 应力 磁控溅射 探针轮廓仪
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 激光材料和光学元件
• 页码范围: 742-744
• 分类号: O484.2
• 字数: 1573字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2012.06.008

摘要

为了研究磁控溅射方法制备的Zr膜的应力分布情况,采用探针轮廓仪测量镀膜前后基片在1维方向上的形变,根据镀膜前后基片曲率半径的变化和Stoney公式,用自编应力计算软件计算出薄膜的内应力.结果表明,Zr膜中主要存在的是压应力,且分布不均匀;工作气压对Zr膜内应力影响不大,但膜厚对Zr膜内应力影响较大,且随膜厚的增加,Zr膜中压应力减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王善力		11	37	3.0	5.0
2	褚君浩	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	103	650	13.0	22.0
6	曹鸿	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	6	14	3.0	3.0
10	张传军	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	5	12	3.0	3.0