铜基NiCr系太阳光吸收薄膜制备及性能分析

• 作者: 王国栋 裘一冰 陈长琦
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控反应溅射 吸收比 发射率 溅射工艺 填充因子
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 页码范围: 669-673
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2012.08.02

摘要

基于等效媒质理论设计了NiCr四层渐变膜系.以4∶1的NiCr合金靶材,氧气和氮气为反应气体,氩气为工作气体,用磁控反应溅射法制备蓝色NiCr系太阳能光谱选择性吸收薄膜.测试分析薄膜成分、微观结构、厚度、吸收比和发射率对薄膜性能的影响.测试结果表明两层吸收膜的吸收比大于单层吸收膜；单层吸收膜的吸收比随填充因子的增大而增大；当单层吸收膜的填充因子在两层吸收膜的填充因子之间时,两层吸收膜的发射率小于单层吸收膜；两层吸收膜的吸收比随减反射层厚度的增大先增大后减小,发射率则一直增大.为多层铜基NiCr系阳光吸收膜磁控溅射沉积制备工艺提供了理论依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈长琦	合肥工业大学机械与汽车工程学院真空科学技术与装备研究所	119	1027	16.0	26.0
2	王国栋	合肥工业大学机械与汽车工程学院真空科学技术与装备研究所	20	61	4.0	6.0
3	裘一冰	合肥工业大学机械与汽车工程学院真空科学技术与装备研究所	2	19	2.0	2.0